多功能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子和蒸发镀膜的混合设备。在多弧离子镀膜机的基础上，配备圆柱形靶或平面磁控管靶。该设备具有离子镀电离率高、堆积速度快的特点，以及磁控溅射温度低、稳定性好的优点，适用于各种复合膜的镀覆。
多功能真空镀膜机-磁力控制，中频，多弧离子镀膜，详细介绍：
①蒸发和磁控溅射混合设备：
多功能，适合批量生产，适应性强。
②磁控溅射和多弧离子镀的混合应用：
多弧可提高火炮清洗质量，增加薄膜与基体的附着力。与磁控溅射一起工作可以生产复合膜（高能离子源清洁和活化，快速成膜）。
③多对中频磁控溅射靶和柱弧离子镀的混合应用：
中频靶材更稳定（如Al），具有高电离速率、快速堆叠速率和均匀成膜。
中频反应溅射，如镀SiO2和TiO2，将不同原料的多层薄膜镀在一起。
④射频、直流、中频和柱弧的混合应用：
RF可以直接涂覆绝缘保护膜，如SiO2/Ag/SiO2
⑤圆柱弧、中频和多弧的混合应用：
柱弧确保了高电离率的结合，减少了大颗粒积聚的比例，并达到了良好的附着力和良好的表面光洁度的效果。